CT系列鍍膜機(jī)

CT(Custamued workstation)系列鍍膜機(jī)系我司非標(biāo)定制產(chǎn)品，根據(jù)您的要求單獨(dú)設(shè)計(jì)，滿足您的特殊需要。

特點(diǎn)：1、按需開發(fā)，量身定制。

2、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu)，密封性能好，防塵防水，安全。

3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選

4、可集成手套箱系統(tǒng)

5、可集成多種自動(dòng)化應(yīng)用

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多功能真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)工作時(shí)，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進(jìn)行鍍膜；在集成電路制造中晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線等，多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。鍍膜完成后，需要向真空室充氣?，F(xiàn)有技術(shù)中，真空鍍膜機(jī)的充氣管道直接與外界連通，容易把外界空氣中的灰塵帶入真空室，導(dǎo)致鏡片上吸附灰塵，造成產(chǎn)品不良真空蒸渡金屬薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜，其中被鍍金屬材料用的1多的是鋁，在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄或鍍鋁紙，在鍍鋁薄膜生產(chǎn)過程中對(duì)于真空條件是有嚴(yán)格限定的，真空度過高或過低都會(huì)影響鍍膜的性能，目前，工廠里使用的鍍膜機(jī)對(duì)于真空度的控制并不是很穩(wěn)定，導(dǎo)致生產(chǎn)過程中產(chǎn)品的性能不夠穩(wěn)定，因此，解決生產(chǎn)過程中鍍膜機(jī)里的真空度不易控制的問題尤為重要，而且內(nèi)部鍍膜物件的溫度高，需要及時(shí)降溫，提高工作效率。

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真空鍍膜機(jī)部件分析

真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用1多的有直徑1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等，腔體由不銹鋼' target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等，真空腔各部分有連接閥，用來(lái)連接各抽氣泵浦。1964年，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，解決了飛機(jī)零件的“鎘脆”問題。

輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三大部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2、0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時(shí)候，機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動(dòng)作。以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來(lái)分享的是薄膜均勻性概念的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)您有所幫助。

現(xiàn)代真空鍍膜機(jī)膜厚測(cè)量及監(jiān)控方法

涂層的鍍膜機(jī)控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅(qū)動(dòng)的蒸發(fā)源，通過PID控制回路傳動(dòng)擋板，使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準(zhǔn)確性是有限的，鍍膜機(jī)部分原因是其監(jiān)測(cè)代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。根據(jù)現(xiàn)象判斷原因，然后再去根據(jù)判斷找問題，可能會(huì)收到事半功倍的效果。

此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對(duì)溫度很敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過程中，鍍膜機(jī)很難避免傳感器為敏感的區(qū)域，導(dǎo)致薄膜的重大錯(cuò)誤。 光學(xué)監(jiān)測(cè)是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式，鍍膜機(jī)這是因?yàn)樗軠?zhǔn)確控制膜的厚度(如果使用得當(dāng))。

精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測(cè)。optimalswa-i-05單一波長(zhǎng)的光學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，是間接控制，鍍膜機(jī)先進(jìn)的光學(xué)監(jiān)測(cè)軟件結(jié)合王博士的發(fā)展，有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少終的誤差的理論方法，提供監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。此外粘有活性炭的吸附表面的幾何形狀及位置、活性炭的顆粒結(jié)構(gòu)、粘結(jié)材料及粘接工藝，對(duì)抽速也有很大的影響。