真空鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。當(dāng)擴散泵油被電爐加熱時，產(chǎn)生的油蒸汽沿著導(dǎo)流管經(jīng)傘形噴嘴向下噴出。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。CT系列鍍膜機CT(Custamuedworkstation)系列鍍膜機系我司非標(biāo)定制產(chǎn)品，根據(jù)您的要求單獨設(shè)計，滿足您的特殊需要。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。以上是由艾明坷科技有限公司發(fā)表內(nèi)容，如有需要，歡迎新老客戶蒞臨。

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真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。對于真空鍍膜機必須要掌握的名詞低溫冷凝泵：它是利用低溫表面來凝聚氣體分子以實現(xiàn)抽氣的一種泵，是目前獲得極限真空1高，抽速1大的抽氣泵。

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真空鍍膜機的檢漏方法

真空鍍膜機廠家查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機真空度的一項查看辦法，簡稱檢漏，真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的，所以檢漏是必不可少的。

通常真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細縫中發(fā)生，當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強降低，外部與內(nèi)部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內(nèi)，形成真空度降低。

真空鍍膜機廠家介紹在檢漏的過程中，需求注意一些問題，才能把檢漏作業(yè)做好。為真空鍍膜設(shè)備做好檢漏作業(yè)是很主要的，形成真空度降低的緣由多種多樣，咱們要逐個的處理這些緣由，安穩(wěn)鍍膜的作用。