真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時間短，30分鐘左右（充干燥氮?dú)猓?。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

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真空鍍膜機(jī)適用范圍

1．建筑五金：衛(wèi)浴五金（如水龍頭）．門鎖．門拉手．衛(wèi)浴、五金合葉、家具等。

2．制表業(yè)：可用于表殼．表帶的鍍膜、水晶制品。

3．其它小五金：皮革五金．不銹鋼餐具．眼鏡框、刀具、模具等．

4．大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板．招牌．雕塑等。

5、不銹鋼管和板（各種類型表面）

6、家具、燈具、賓館用具。

7、鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器皿等五金制品鍍超硬裝飾膜。

8、手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾（金銀）納米膜和納米膜和納米疊層膜。

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域在平板顯示器中所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且，幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。每種泵都有一定的工作壓強(qiáng)范圍，如：2BV系列水環(huán)真空泵工作壓強(qiáng)范圍760mmHg~25mmHg(絕壓)，在這樣寬壓強(qiáng)范圍內(nèi)，泵的抽速隨壓強(qiáng)而變化(詳細(xì)變化情況參照泵的性能曲線)，其穩(wěn)定的工作壓強(qiáng)范圍為760~60mmHg。

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對于真空鍍膜機(jī)必須要掌握的名詞

低溫冷凝泵：它是利用低溫表面來凝聚氣體分子以實(shí)現(xiàn)抽氣的一種泵，是目前獲得極限真空1高，抽速1大的抽氣泵。

冷凝泵的工作原理：主要是低溫表面對氣體的冷凝作用、冷捕作用及物理低溫吸附作用。

低溫冷凝：根據(jù)各種氣體的特性，采用液氦或者制冷循環(huán)氦氣來冷卻。

冷捕集：就是不可凝氣體被可凝氣體捕集的現(xiàn)象，通常二氧化碳、水蒸氣、氮?dú)?、壓氣等氣體首先形成霜，于低溫表面形成吸附層，進(jìn)而達(dá)到吸附其它氣體的目的，低溫泵抽除混合氣體的效果比抽除單一效果好就是這個原因。

低溫吸附：指低溫表面上的吸附劑吸附氣體的作用，由于吸附劑與氣體分子之間的相互作用很強(qiáng)，故可達(dá)到氣相壓強(qiáng)比冷凝表面溫度下它的飽和蒸汽壓還低的水平。吸附劑通常是活性炭。

冷凝泵的抽氣速率及影響冷凝泵的抽氣速率與冷凝表面的面積大小有關(guān)系，經(jīng)數(shù)據(jù)顯示，單位冷凝表面積下的抽氣速率為11.6升/秒.平方厘米，冷凝泵可以抽到10-8帕；此外粘有活性炭的吸附表面的幾何形狀及位置、活性炭的顆粒結(jié)構(gòu)、粘結(jié)材料及粘接工藝，對抽速也有很大的影響。其次關(guān)鍵在于制冷機(jī)的制冷量要足夠大。若設(shè)備嚴(yán)格要求無油時，應(yīng)該選各種無油泵，如：水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。

真空計(jì)：真空計(jì)是真空鍍膜機(jī)器上的重要組成部分，它是檢測鍍膜機(jī)真空度的重要手段。

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