特氣系統(tǒng)知識分享：一般混合氣體

由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。

對氣體分析儀用氣體,如含氫10%，其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%；含氫40%，其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測儀的燃料氣。

在測定放1射性物質(zhì)時,使用的混合氣有下列幾種組成:含異丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦為底氣。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合氣。激光用氣含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化學反應、動植物實驗室和金屬腐蝕等研究用的混合氣因關系到公害問題,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氫等都要保持低濃度。

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特氣系統(tǒng)知識分享：標準氣體

所謂標準氣體就是用來校正測量儀器、評價測定方法、給出未知樣品氣標準值的氣體。它分為調(diào)整零位用標準氣體(零位氣體)、監(jiān)測環(huán)境用標準氣、工業(yè)分析用標準氣體、醫(yī)1療儀器用標準氣體、可燃性氣體泄漏用標準氣體、燃燒器尾氣用標準氣體六大類。在儲存、運輸及使用杜瓦罐時不能使其臥倒，應永遠使杜瓦罐保持直立狀態(tài)。由于使用了標準氣,所以即使在不同場所測定,也具有相同測定值。

標準氣體應用范圍很廣,在化工、石油冶金、機械、航天、電子、陶瓷、汽車、光纖、激光、潛水、環(huán)保、切割、焊接、食品加工等工業(yè)部門均使用大量的常用氣體和特種氣體。其中在石油化工領域?qū)藴蕷怏w的需求量相對較大。

氦質(zhì)譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多，氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進入真空系統(tǒng)或容器中；

漏率（漏氣速率）：是指單位時間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量；

1小可檢漏率：是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率；

檢漏靈敏度：也叫有效靈敏度，指檢漏儀器在1佳工作狀態(tài)下能檢出的1小漏率；

反應時間：也稱響應時間，是指從檢漏方法開始實施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間；

消除時間：是指從檢漏方法停止（如停止噴吹示漏氣體）到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間；

漏孔堵塞現(xiàn)象：指由于真空檢漏作業(yè)操作不當導致塵?；蛞后w堵塞漏孔，檢漏時似乎不漏氣，但一經(jīng)排氣就會出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。

小流量氣體凈化系統(tǒng)

高純供氣系統(tǒng)主要應用于鋼瓶氣、管道氣及氣體發(fā)生器等的高純連續(xù)供氣，應用于超微量水、氧分析儀、氣相色譜儀、常壓離子質(zhì)譜儀等各類氣體分析儀器純化載氣或零點氣，也可用于超高純度氣體管道安裝施工中的吹掃氣體，更可以為半導體工藝設備提供超高純的工藝氣體。特種氣體的應用領域主要在集成電路制造、太陽能電池、化合物半導體、液晶顯示器、光纖生產(chǎn)四大領域,其中主要應用于半導體集成電路的生產(chǎn)制造。

氣體凈化系統(tǒng)根據(jù)需求采用常溫或者高溫吸附劑，電化學拋光316L不銹鋼管件，出氣口配置微米過濾器，其氣體純化指標達到各項雜質(zhì)含量小于1ppb的世界先進水平。

氣體配比儀采用質(zhì)量流量計，電化學拋光316L不銹鋼管件，雙卡套或者VCR氣體接頭。