大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。2、特氣系統(tǒng)，內(nèi)向測(cè)漏法測(cè)定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s。

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電子特氣管道系統(tǒng)氦檢漏方法

特氣系統(tǒng)氣體管道氦檢漏的順序宜采用內(nèi)向檢漏法、閥座檢漏法、外向檢漏法。

1、內(nèi)向檢漏法(噴氦法)采用管道內(nèi)部抽真空，外部噴氦氣的方法檢漏，測(cè)試管路系統(tǒng)的泄漏率。

2、閥座檢漏法采用閥門上游充氦氣，下游抽真空的方法檢漏，測(cè)試管路系統(tǒng)的泄漏率。

3、外向檢漏法(吸槍法)應(yīng)采用管路內(nèi)部充氦氣或氦氮混合氣，外部應(yīng)采用吸槍檢查漏點(diǎn)的方法檢漏，測(cè)試管路系統(tǒng)的泄漏率。

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氦質(zhì)譜檢漏儀

隨著科技的迅猛發(fā)展，氦質(zhì)譜檢漏儀及其應(yīng)用技術(shù)也在不斷發(fā)展和究善。各國(guó)的設(shè)備廠商相繼推出了多種類烈的氦質(zhì)譜檢漏儀，廣泛應(yīng)用丁航空航天，電力電子，汽車等各個(gè)行業(yè)，綜觀1新氦質(zhì)譜檢漏儀的性能特點(diǎn)發(fā)現(xiàn)，氦質(zhì)譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動(dòng)化、寬程、等先進(jìn)方向發(fā)展，這些特點(diǎn)很好地滿足了當(dāng)前檢漏應(yīng)用的需求，也極大地1推動(dòng)了氮質(zhì)譜檢漏技術(shù)的不斷發(fā)展。實(shí)驗(yàn)室的氣體的排放是非常重要的，如果說實(shí)驗(yàn)室氣體管道設(shè)計(jì)不合理，工作人員就容易出事，甚至嚴(yán)重的就會(huì)有生命危險(xiǎn)。